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发明名称
半导体元件及其制作方法
摘要
本发明提供一种半导体元件及其制作方法,半导体元件包含有复数个散射条设置于一隔离导线两侧,以改善微影制程之结果,各散射条具有一定的宽度并与隔离的导线间距有一定距离,以增加对半导体元件进行图案化时的微影制程的聚焦深度,且在完成半导体元件的制作后,这些散射条将仍存留于半导体元件内。
申请公布号
TW200625001
申请公布日期
2006.07.16
申请号
TW094119472
申请日期
2005.06.13
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
陈桂顺;林进祥;严永松;赖志明
分类号
G03F7/00
主分类号
G03F7/00
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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