发明名称 |
微影装置、检偏镜板、次组件、测量一投影系统一参数之方法、以及用以图型化之器件 |
摘要 |
本发明揭示一种藉由一投影辐射束照明一在一投影系统(PL)与一辐射感测器(DS)之间的检偏镜板(AP)。该检偏镜板包含两个交叉区域,该等区域中之每一区域均透射具有一不同偏振方向之辐射。图型化该投影辐射束而不影响该射束之偏振。藉由图型化该投影辐射束而使一区域较该另一区域接收更多的辐射,选择性的给予该辐射感测器(DS)偏振。 |
申请公布号 |
TW200625025 |
申请公布日期 |
2006.07.16 |
申请号 |
TW094142805 |
申请日期 |
2005.12.05 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
提姆瑟 法兰西斯 参格;马卡斯 安德纳斯 范 戴 克豪夫;ADRIANUS |
分类号 |
G03F7/20;G01J4/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |