发明名称 微影装置、检偏镜板、次组件、测量一投影系统一参数之方法、以及用以图型化之器件
摘要 本发明揭示一种藉由一投影辐射束照明一在一投影系统(PL)与一辐射感测器(DS)之间的检偏镜板(AP)。该检偏镜板包含两个交叉区域,该等区域中之每一区域均透射具有一不同偏振方向之辐射。图型化该投影辐射束而不影响该射束之偏振。藉由图型化该投影辐射束而使一区域较该另一区域接收更多的辐射,选择性的给予该辐射感测器(DS)偏振。
申请公布号 TW200625025 申请公布日期 2006.07.16
申请号 TW094142805 申请日期 2005.12.05
申请人 ASML公司 发明人 提姆瑟 法兰西斯 参格;马卡斯 安德纳斯 范 戴 克豪夫;ADRIANUS
分类号 G03F7/20;G01J4/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰