发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明系提供一种可总括加工半导体晶圆,且以配线用树脂薄膜夹持半导体晶圆,藉此作为基材加以处理,因此可提升生产性的半导体装置及其制造方法。本发明之半导体装置系具有:夹持半导体元件1的第1及第2配线用树脂薄膜3、3a;分别形成于夹持前述半导体元件之第1及第2配线用树脂薄膜所露出的表面的配线图案4、4a;以及形成于前述第2配线用树脂薄膜的配线图案所露出的表面的外部连接端子8。形成于第1配线用树脂薄膜的配线图案4系藉由连接配线5与半导体元件作电性连接,形成于第2配线用树脂薄膜的配线图案4a系藉由连接配线6与形成于第1配线用树脂薄膜的配线图案4作电性连接。
申请公布号 TW200625476 申请公布日期 2006.07.16
申请号 TW094131647 申请日期 2005.09.14
申请人 东芝股份有限公司 发明人 关口正博
分类号 H01L21/56;H01L23/52 主分类号 H01L21/56
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本