曝光光罩的对位方法,及薄膜元件基板的制造方法

摘要

本发明的目的是在于提供一种能够一方面保持同一曝光光罩的对准标记间的最小容许间隔，另一方面缩小对象体的对准标记所必要的区域之曝光光罩的对位方法，及使用彼之薄膜元件基板的制造方法。亦即，本发明之曝光光罩的对位方法，系使用形成有对准标记的复数个全息照相光罩来对形成有对准标记的曝光对象的对象体进行图案曝光时，利用两者的对准标记来进行复数次全息照相光罩与对象体的对位，其特征为：将连续的三次以上对位中对象体上之第3次的对位用的对准标记设置于第2次及第1次的各个对位用的对准标记之间，或设置于相对第1次的对位用的对准标记，与具有第2次的对位用的对准标记的一侧呈相反的一侧，而来进行对位。