用于电浆处理系统中常压电浆之最佳化的设备

摘要

本发明揭露一种设备，用于在反应式离子蚀刻制程中清洁一基板。此设备系用以使用一RF产生装置来产生一常压电浆。此设备包含一电浆形成腔，此电浆形成腔包含由一组内部腔壁所界定之一腔体，该等腔壁系由一介电材料所构成。此设备亦包含由该RF产生装置所产生之一常压电浆，且此常压电浆系由此腔体之一第一端冒出，以清洁该基板。