| 摘要 |
本发明涉及一种薄膜状聚合体处理装置及处理方法，特别是一种能够形成和薄膜状聚合体形状相吻合的等离子壳层，以提高经处理聚合体的硬度及表面导电率的薄膜状聚合体处理装置及其处理方法。本发明装置包括：处理室，整体上呈圆筒状，其内部可形成密闭空间；主辊，其配置在所述处理室的，用于使薄膜状聚合体围绕其外周面移动；高频电源供应装置，其由高频电力供给装置、匹配器、天线构成，用于供给高频电源，以在该处理室内部产生等离子；工作气体供应装置，其由工作气体供应源、工作气体供应道、流量调节装置组成，用于供给在所述处理室形成等离子的工作气体；真空泵，用于减压所述处理室内部气压，使该处理室内部成为真空状态；栅极部，其由负电压发生器、栅极组成，用于聚集离子。其中该天线和该栅极之间隔开250～400mm。 |
