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发明名称
积体热电冷却装置及其制造方法
摘要
本发明提供一种半导体积体热电装置,其系利用半导体薄膜及超大型积体电路(VLSI)制程,而形成具有高密度之热电元件阵列。举例而言,热电装置可分隔地形成并与半导体晶片结合,或者一体成型地(integrally)形成于半导体晶片之非主动区表面内。
申请公布号
TW200625702
申请公布日期
2006.07.16
申请号
TW094138394
申请日期
2005.11.02
申请人
万国商业机器公司
发明人
霍华 豪 陈;理查C. 朱;路易斯L. 许
分类号
H01L35/00;H01L21/02
主分类号
H01L35/00
代理机构
代理人
蔡玉玲
主权项
地址
美国
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