发明名称 CMP Kissen, das eine überlappende abgestufte Rillenanordnung aufweist
摘要 Polierkissen (104, 300), das eine ringförmige Polierspur (152, 320) und eine Mehrzahl von Gruppen (160, 308) von Rillen (112, 304) aufweist, die in Umfangsrichtung um das Rotationszentrum (128) des Kissens wiederholt sind. Die Mehrzahl von Rillen in jeder Gruppe ist entlang einer Trajektorie bzw. Bahn (164, 312) in einer versetzten und überlappenden Weise so angeordnet, um eine Mehrzahl von überlappenden Stufen (172, 316) innerhalb der ringförmigen Polierspur zur Verfügung zu stellen. Die Gruppen können in einer voneinander beabstandeten oder verschachtelten Beziehung zueinander angeordnet sein.
申请公布号 DE102005059545(A1) 申请公布日期 2006.07.13
申请号 DE200510059545 申请日期 2005.12.13
申请人 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS CMP HOLDINGS, INC. 发明人 ELMUFDI, CAROLINA L.;MULDOWNEY, GREGORY P.
分类号 B24D13/14;B24D99/00 主分类号 B24D13/14
代理机构 代理人
主权项
地址