摘要 |
Polierkissen (104, 300), das eine ringförmige Polierspur (152, 320) und eine Mehrzahl von Gruppen (160, 308) von Rillen (112, 304) aufweist, die in Umfangsrichtung um das Rotationszentrum (128) des Kissens wiederholt sind. Die Mehrzahl von Rillen in jeder Gruppe ist entlang einer Trajektorie bzw. Bahn (164, 312) in einer versetzten und überlappenden Weise so angeordnet, um eine Mehrzahl von überlappenden Stufen (172, 316) innerhalb der ringförmigen Polierspur zur Verfügung zu stellen. Die Gruppen können in einer voneinander beabstandeten oder verschachtelten Beziehung zueinander angeordnet sein.
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