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发明名称
a manufacturing method of a photo-mask for thin film transistor panels
摘要
申请公布号
KR100601174(B1)
申请公布日期
2006.07.13
申请号
KR19990033879
申请日期
1999.08.17
申请人
发明人
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
地址
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