摘要 |
Die Erfindung betrifft eine wässrige Lösung, die zum selektiven Entfernen in der Gegenwart eines low k-Dielektrikums geeignet ist. Die wässrige Lösung umfasst 0 bis 25 Gew.-% eines Oxidationsmittels, 0,00002 bis 5 Gew.-% eines grenzflächenaktiven Mittels aus mehreren Komponenten, wobei das grenzflächenaktive Mittel aus mehreren Komponenten einen hydrophoben Schwanz, einen nichtionischen hydrophilen Abschnitt und einen anionischen hydrophilen Abschnitt aufweist, wobei der hydrophobe Schwanz 6 bis 30 Kohlenstoffatome und der nichtionische hydrophile Abschnitt 10 bis 300 Kohlenstoffatome aufweist, 0 bis 15 Gew.-% eines Inhibitors für ein Nichteisenmetall, 0 bis 50 Gew.-% Schleifmittel, 0 bis 20 Gew.-% eines Komplexierungsmittels für ein Nichteisenmetall und Wasser.
|