| 发明名称 | 高频等离子体射束源及喷射表面的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及高频等离子体射束源(1)，带有：等离子体室(3)；电气装置(8、9)，将电压施加在该高频等离子体射束源(1)上，以激发和维持该等离子体；从等离子体空间(3)引出等离子体射束(I)的装置(4)；以及用引出网格(4)与真空室(7)分隔的出口。等离子体射束(I)从高频等离子体射束源(1)产生，基本上呈发散的喷射特性。本发明还涉及用高频等离子体射束源的等离子体射束(I)喷射一个表面的方法，其中所述等离子体射束(I)是发散的。 | ||
| 申请公布号 | CN1802724A | 申请公布日期 | 2006.07.12 |
| 申请号 | CN200480015920.5 | 申请日期 | 2004.04.08 |
| 申请人 | 莱博德光学有限责任公司 | 发明人 | R·贝克曼 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01J37/32(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种高频等离子体射束源，带有：等离子体用的等离子体室(3)；电气装置(8、9)，用以激发和维持等离子体；处于高频电位的引出网格(4)，用以从等离子体室(3)引出等离子体射束(I)；以及出口，尤其是对着真空室(7)的出口，其中所述引出网格(4)布置在该出口的范围内，其特征在于，所述等离子体射束(I)基本上为发散的。 | ||
| 地址 | 德国阿尔策瑙 | ||