| 发明名称 | 经改进的成像装置的遮光层 | ||
| 摘要 | 一种经改进的成像装置像素的结构，在像素电路至少但在像素导电互连层之下设有遮光层。遮光层可为不透光(或几乎不透光)材料的薄膜，并有孔供接触体连接到下面的电路。遮光层中的开口露出像素的光电转换器的活性区。 | ||
| 申请公布号 | CN1802750A | 申请公布日期 | 2006.07.12 |
| 申请号 | CN200480015732.2 | 申请日期 | 2004.04.08 |
| 申请人 | 微米技术有限公司 | 发明人 | H·E·罗德斯 |
| 分类号 | H01L27/146(2006.01) | 主分类号 | H01L27/146(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种成像装置，包括：像素光电转换器；与所述像素光电转换器电连接的像素电路；遮光层，所述遮光层设于所述像素电路之上，并在所述光电转换器之上有透光区域；以及至少一层互连层，所有所述互连层设于所述遮光层之上。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||