发明名称 锂铒共掺制备近红外发光ZnO薄膜的方法
摘要 本发明公开的锂铒共掺制备近红外发光ZnO薄膜的方法,步骤如下:1)按ZnO∶Er<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>∶Li<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>的摩尔比为95~98∶1~2.5∶1~2.5,取纯ZnO、Er<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>和Li<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>粉末,球磨混合后放到硅碳棒炉中在700~900℃下预烧,加入粘结剂碾磨压制成型,烧结得陶瓷靶材;2)将靶材放到脉冲激光沉积装置的生长室中,在衬底上生长含铒的ZnO薄膜;3)含铒的ZnO薄膜在700~1500℃、氧气氛中退火。本发明以ZnO、Er<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>和Li<SUB>2</SUB>CO<SUB>3</SUB>粉末为原料,成本低廉,工艺简单。制得的锂铒共掺ZnO薄膜能有效地提高在1.5μm处的光致发光强度,不仅晶体质量好,且具有较好的表面形貌。
申请公布号 CN1800299A 申请公布日期 2006.07.12
申请号 CN200510061693.6 申请日期 2005.11.25
申请人 浙江大学 发明人 朱丽萍;顾修全;叶志镇;赵炳辉
分类号 C09K11/78(2006.01) 主分类号 C09K11/78(2006.01)
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 韩介梅
主权项 1.锂铒共掺制备近红外发光ZnO薄膜的方法,其特征在于包括以下步骤:1)取纯ZnO、Er2O3和Li2CO3粉末,ZnO∶Er2O3∶Li2CO3的摩尔比为95~98∶1~2.5∶1~2.5,将上述粉末经球磨充分混合后放到硅碳棒炉中在700~900℃下预烧至少1小时,然后在粉末中加入粘结剂,经碾磨后压制成型,再放入硅碳棒炉中在1200~2000℃下烧结制得陶瓷靶材;2)将靶材放到脉冲激光沉积装置的生长室中,靶材与衬底之间的距离为4~6cm,生长室抽真空至10-4Pa,衬底加热至500~750℃,以氧气为生长气氛,氧压保持0.1~10Pa,开启激光,在衬底上生长含铒的ZnO薄膜;3)将步骤2)制得的含铒的ZnO薄膜在700~1500℃、氧气氛中退火至少30min。
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