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发明名称 PHOTO SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PREPARATING THE SAME, AND DRY FILM RESIST COMPRISING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100599810(B1) 申请公布日期 2006.07.12
申请号 KR20040099483 申请日期 2004.11.30
申请人 发明人
分类号 G03F7/027;C08F2/50;G03F7/004;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/033;H01J11/22;H01J11/34;H01J11/36 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
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