发明名称 圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构
摘要 圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构,由上中下圆弧导轨、限位外套、压模卡盘、压模、基片、钢球或滚柱、上下隔离架、拉簧和拉簧挂销组成,上中下圆弧导轨之间有钢球或滚柱,并通过拉簧拉紧连接,下圆弧导轨与装有压模的压模卡盘相接,正对压模的下方是基片,限位外套安装在上圆弧导轨上,它的下方四周对下圆弧导轨的旋转角度范围起限位作用。当压模和基片由于不平行,在下压时某处先接触,压模可绕过压模下表面中心点的Y或X轴线作微滚动旋转,达到压模和基片的完全平行贴合与压紧,不产生对准偏离与在水平面内旋转,使纳米压印套准精度大幅提高,制作出复杂多层的纳米图形结构,该机构用常规设备加工,制作方便,成本低廉,应用广泛。
申请公布号 CN1799852A 申请公布日期 2006.07.12
申请号 CN200510130741.2 申请日期 2005.12.27
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 陈旭南;罗先刚;陈献忠;杜春雷;胡承刚
分类号 B41K3/00(2006.01);B41M5/26(2006.01);G03F7/20(2006.01);B41F27/00(2006.01) 主分类号 B41K3/00(2006.01)
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人 刘秀娟;成金玉
主权项 1、圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构,其特征在于:由上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)、限位外套(4)、压模卡盘(5)、压模(6)、基片(7)、钢球(8)或滚柱(13)、上隔离架(9)、下隔离架(10)、4个拉簧(11)和8个拉簧挂销(12)组成,上圆弧导轨(1)、中圆弧导轨(2)、下圆弧导轨(3)之间均设有钢球(8)或滚柱(13),4个拉簧(11)的两端挂钩分别挂在安装在上圆弧导轨(1)和下圆弧导轨(3)上的各4个拉簧挂销(12)上,下圆弧导轨(3)与压模卡盘(5)相接,压模(6)装于压模卡盘(5)内,正对压模(6)的下方是基片(7),上隔离架(9)位于上圆弧导轨(1)和中圆弧导轨(2)之间,由中圆弧导轨(2)或钢球(8)支撑,下隔离架(10)位于中圆弧导轨(2)和下圆弧导轨(3)之间,由下圆弧导轨(3)或钢球(8)支撑,钢球(8)或滚柱(13)位于各隔离架内,限位外套(4)安装在上圆弧导轨(1)上,它的下方四周对下圆弧导轨(3)的旋转角度范围起限位作用;当压模(6)和基片(7)由于不平行,在下压时某处先接触,压模(6)可绕过压模(6)下表面中心点的Y或X轴线作滚动微旋转,达到压模(6)和基片(7)的完全平行贴合与压紧,不产生对准偏离与在水平面内旋转。
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