等离子体增强薄膜沉积方法及装置

摘要

本发明提供一种等离子体增强薄膜沉积装置及薄膜沉积方法。其中，该装置包括：一密闭腔室；一电磁装置，用以于该腔室内预定的等离子体发生区域产生预定强度的磁场；一微波装置，用以产生微波并发射微波至该等离子体发生区域；一对溅射靶，彼此相对设置于该腔室内的等离子体发生区域两侧，各溅射靶分别与一阴极接触；及一固持器，用以固持待处理的工件；其中，该微波的频率匹配该磁场强度足以产生电子回旋共振，藉此产生高能离子轰击该溅射靶，使得靶材原子激发出来并沉积于工件表面形成薄膜。本发明具有靶材来源广，薄膜质量优良之特点。另外，本发明还揭示一种利用等离子体沉积薄膜的方法。

主权项

1.一种等离子体增强薄膜沉积装置，其包括：一密闭腔室，其具有反应气体入口及抽真空系统；一电磁装置，用以于该腔室内预定的等离子体发生区域产生预定强度的磁场；一微波装置，用以产生微波并发射微波至该等离子体发生区域；其特征在于，还包括一对溅射靶，彼此相对设置于该腔室内的等离子体发生区域二侧，各溅射靶分别与一阴极接触；及一固持器，用以固持待处理的工件；其中，该微波的频率匹配该磁场强度足以产生电子回旋共振，藉此产生等离子体离子轰击该溅射靶，使得靶材原子激发出来并沉积于工件表面形成薄膜。