APPARATUS FOR GAS BURNER NOZZLE IN WASTE GAS ABATEMENT EQUIPMENT OF SEMICONDUCTOR,申请号KR20050001295-传众专利搜索

发明名称	APPARATUS FOR GAS BURNER NOZZLE IN WASTE GAS ABATEMENT EQUIPMENT OF SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号	KR20060080997(A)	申请公布日期	2006.07.12
申请号	KR20050001295	申请日期	2005.01.06
申请人	GLOBAL STANDARD TECHNOLOGY CO., LTD.	发明人	CHOI, WOON SUN
分类号	H01L21/02	主分类号	H01L21/02
代理机构		代理人
主权项
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