| 发明名称 |
HIGH APERTURE LENS WITH AN OBSCURED PUPIL |
| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Objektiv, insbesondere Mikrolithographie-Projektionsobjektiv, insbesondere für Wellenlängen = 193 nm umfassend ein erstes Teilobjektiv (100), das wenigstens einen Spiegel aufweist, wobei der Spiegel (S1) keine Öffnung für einen Durchtritt eines Strahlenbüschels aufweist und ein zweites Teilobjektiv (200), das wenigstens einen primären Konkavspiegel (SK1) und einen sekundären Konkavspiegel (SK2) aufweist, wobei der primäre Konkavspiegel,(SK1) und der sekundäre Konkavspiegel (SK2) eine Öffnung für den Durchtritt des Strahlbüschels aufweist.</p> |
| 申请公布号 |
WO2006069725(A1) |
申请公布日期 |
2006.07.06 |
| 申请号 |
WO2005EP13841 |
申请日期 |
2005.12.22 |
| 申请人 |
CARL ZEISS SMT AG;MANN, HANS-JUERGEN;SHAFER, DAVID;ULRICH, WILHELM |
发明人 |
MANN, HANS-JUERGEN;SHAFER, DAVID;ULRICH, WILHELM |
| 分类号 |
G02B17/06 |
主分类号 |
G02B17/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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