发明名称 |
具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法 |
摘要 |
一种光刻设备具有多个不同的对准装置,所述对准装置用于对相同的标记执行对准测量,通过:检测位于对象上的第一对准标记,并由第一检测器产生第一对准信号;检测所述相同的第一标记,并由第二检测器使用不同于所述第一检测器的不同的对准测量方式产生第二对准信号;接收来自所述第一检测器的所述第一对准信号;基于所述第一对准信号计算所述至少第一标记的第一位置;接收来自所述第二检测器的所述第二对准信号;基于所述第二对准信号计算所述至少第一标记的另外的第一位置。 |
申请公布号 |
CN1797204A |
申请公布日期 |
2006.07.05 |
申请号 |
CN200510003530.2 |
申请日期 |
2005.12.26 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
F·B·M·凡比尔森 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨凯;梁永 |
主权项 |
1.一种光刻设备,包括:●第一对准装置,其包括设置成检测位于对象上的至少第一对准标记并产生第一对准信号的第一检测器;●第二对准装置,其使用与所述第一对准装置不同的对准测量方式,并包括设置成检测所述相同的至少第一标记并产生第二对准信号的第二检测器;●处理器,其连接到所述第一检测器和所述第二检测器,并且被设置成:○接收来自所述第一检测器的所述第一对准信号;○基于所述第一对准信号计算所述至少第一标记的第一位置;○接收来自所述第二检测器的所述第二对准信号;○基于所述第二对准信号计算所述至少第一标记的另外的第一位置。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |