发明名称 |
一种电子元件的电镀种子层的制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种电子元件的电镀种子层的制作方法,应用于一电子元件的电镀用的一种子层的制作,包含下列步骤:提供一夹置板,该夹置板上具有一个以上的穿孔,该穿孔内设有一弹性体,且该弹性体内设有一恰可夹持该电子元件的嵌入孔;将该电子元件嵌入于该嵌入孔中,通过该弹性体紧密夹持该电子元件,并使该电子元件的两端露出该夹置板;及利用半导体工艺在该电子元件的表面形成一金属薄膜,该金属薄膜即为该电子元件的该种子层。本发明利用溅镀或是蒸镀等方式形成电子元件上的电镀种子层,不仅可简化整个制作电镀种子层的程序,且可降低整个制作成本,对于电子元件的电镀种子层的实际制作有相当大的帮助。 |
申请公布号 |
CN1796611A |
申请公布日期 |
2006.07.05 |
申请号 |
CN200410102776.0 |
申请日期 |
2004.12.27 |
申请人 |
陈木元 |
发明人 |
陈木元 |
分类号 |
C25D5/54(2006.01);C23C18/31(2006.01) |
主分类号 |
C25D5/54(2006.01) |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
梁挥;祁建国 |
主权项 |
1、一种电子元件的电镀种子层的制作方法,应用于一电子元件的电镀用的一种子层的制作,其特征在于,包含下列步骤:提供一夹置板,该夹置板上具有一个以上的穿孔,该穿孔内设有一弹性体,且该弹性体内设有一恰可夹持该电子元件的嵌入孔;将该电子元件嵌入于该嵌入孔中,通过该弹性体紧密夹持该电子元件,并使该电子元件的两端露出该夹置板;及利用半导体工艺在该电子元件的表面形成一金属薄膜,该金属薄膜即为该电子元件的该种子层。 |
地址 |
台湾省台北市 |