| 发明名称 | 光刻用防护胶膜组件及防护胶膜框架 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种防护胶膜组件，其能够有效防止在持续短波长化的光刻工艺中，掩模基板上雾霭(haze)的产生。本发明的光刻用防护胶膜组件1由防护胶膜框架2，及在该框架的一端面贴附的防护胶膜膜片3所构成，构成光刻用防护胶膜组件的该防护胶膜框架的特征为：对该框架铝合金表面进行阳极氧化处理而形成，且其硫酸根离子、硝酸根离子、氯离子以及有机酸(乙二酸、蚁酸及醋酸的总量)各自的含有量为：将该框架浸泡于25℃的100毫升纯水中168小时后，该框架每100平方厘米表面积的溶出浓度，均在1.1ppm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN1797215A | 申请公布日期 | 2006.07.05 |
| 申请号 | CN200510135708.9 | 申请日期 | 2005.12.28 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 永田爱彦 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种防护胶膜框架，为构成光刻用防护胶膜组件的防护胶膜框架，其由对铝合金的表面施以阳极氧化处理而形成，且其硫酸根离子、硝酸根离子、氯离子以及有机酸各自的含有量为：将该框架浸泡于25℃的100毫升纯水中168小时后，该框架每100平方厘米表面积的溶出浓度，均在1.1ppm以下，其中有机酸含有量为乙二酸、蚁酸及醋酸的总量。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||