| 发明名称 | 检测光掩模数据库图案缺陷的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于检测光掩模的数据库图案的缺陷的方法，其包括：根据半导体元件的设计规则设计光掩模的数据库图案；对所设计的数据库图案进行光学邻近修正(OPC)；以及，通过按照所设计的数据库图案的每个线临界尺寸(CD)获得基于至少两个空间宽度的多个偏差值，并检测具有最佳偏差值的图案的外形的方法，检测数据库图案的缺陷。本方法根据光掩模的线临界尺寸将不同的空间宽度加到所述图案上，从而预先检测随照明系统、子膜和光刻胶的厚度而变化的构图缺陷，并修正由具有相同临界尺寸的图案线的不同长度造成的，诸如图案的分裂或桥接的图案缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN1797191A | 申请公布日期 | 2006.07.05 |
| 申请号 | CN200510068836.6 | 申请日期 | 2005.05.12 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 南炳虎;南炳燮 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种用于检测光掩模的数据库图案的缺陷的方法，其包括：根据半导体元件的设计规则设计光掩模的数据库图案；对所设计的数据库图案进行光学邻近修正；以及通过按照所设计的数据库图案的每个线临界尺寸获得基于至少两个空间宽度的多个偏差值，并检测具有最佳偏差值的图案的外形的方法，检测数据库图案的缺陷。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||