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发明名称
METHOD FOR FORMING CAVITIES IN A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE BY IMPLANTING ATOMS
摘要
申请公布号
KR100597643(B1)
申请公布日期
2006.07.05
申请号
KR20007008441
申请日期
2000.08.02
申请人
发明人
分类号
H01L21/20
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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