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发明名称 APPARATUS OF ATOMIC LAYER DEPOSITION AND METHOD FOR FABRICATION OF TERTIARY THIN FILM USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR100600051(B1) 申请公布日期 2006.07.05
申请号 KR20050014419 申请日期 2005.02.22
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KIM, YONG SOO
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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