| 发明名称 | 用于涂覆光刻胶图案的组合物 | ||
| 摘要 | 一种用于涂覆光刻胶图案的组合物，其包括水及包含由式1表示的重复单元的化合物。将该组合物涂覆于先前已形成的图案上，藉此有效地减小光刻胶图案的间隔或接触孔的尺寸。使用该组合物形成光刻胶图案的方法有用地应用于所有用于形成精细图案的半导体工艺中。其中，在说明书中定义了R<SUB>1</SUB>至R<SUB>6</SUB>、R′、R″和n。 | ||
| 申请公布号 | CN1797195A | 申请公布日期 | 2006.07.05 |
| 申请号 | CN200510068848.9 | 申请日期 | 2005.05.12 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 李根守;文升灿 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种用于涂覆光刻胶图案的组合物，其包含水及包括式1的重复单元的水溶性聚合物：<u>式1</u><img file="A2005100688480002C1.GIF" wi="647" he="525" />其中R<sub>1</sub>至R<sub>6</sub>分别选自H、C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>烷基、卤素元素及-CN基团；R′及R″分别选自H、C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>烷基及C<sub>7</sub>-C<sub>20</sub>烷基芳基；且n为10至3,000的整数。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||