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发明名称 CMP SLURRY HAVING LOW DEFECT OCCURRENCE AND METHOD FOR THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060078762(A) 申请公布日期 2006.07.05
申请号 KR20040118081 申请日期 2004.12.31
申请人 CHEIL INDUSTRIES INC. 发明人 CHOUNG, JAE HOON;LEE, IN KYUNG;CHOI, WON YOUNG
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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