| 发明名称 | 无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法 | ||
| 摘要 | 用于指示衬底上故障的方法和系统。本发明的方法包括以下步骤。确定数据是否包括至少一个可疑位。利用所述数据控制图案发生器。利用所述图案发生器使辐射束具有图案。将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分。将具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到所述衬底上，指示与至少一个可疑位相对应的目标部分。 | ||
| 申请公布号 | CN1797219A | 申请公布日期 | 2006.07.05 |
| 申请号 | CN200510137836.7 | 申请日期 | 2005.12.27 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·H·H·霍克斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种用于指示衬底上故障的方法，所述方法包括：(a)确定数据是否包括至少一个可疑位；(b)利用所述数据控制图案发生器；(c)利用所述图案发生器使辐射束具有图案(d)将所述具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分上；以及(e)将所述具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到所述衬底上，指示与在步骤(a)中所确定的至少一个可疑位相对应的所述目标部分。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||