发明名称 |
改善氮化镓基高电子迁移率晶体管栅极肖特基性能的结构 |
摘要 |
一种改善氮化镓基高电子迁移率晶体管栅极肖特基性能的结构,包括:一蓝宝石衬底或碳化硅衬底或硅衬底;一高阻氮化镓缓冲层,该高阻氮化镓缓冲层制作在衬底上;一薄层非故意掺杂铝镓氮插入层,该非故意掺杂铝镓氮插入层制作在高阻氮化镓缓冲层上;一高迁移率氮化镓沟道层,该高迁移率氮化镓沟道层制作在非故意掺杂铝镓氮插入层上;一非故意掺杂铝镓氮空间隔离层,该非故意掺杂铝镓氮空间隔离层制作在高迁移率氮化镓沟道层上;一n型掺杂铝镓氮载流子供给层,该n型掺杂铝镓氮载流子供给层制作在非故意掺杂铝镓氮空间隔离层上;一非故意掺杂铝镓氮盖帽层,该非故意掺杂铝镓氮盖帽层制作在n型掺杂铝镓氮载流子供给层上。 |
申请公布号 |
CN1797787A |
申请公布日期 |
2006.07.05 |
申请号 |
CN200410101891.6 |
申请日期 |
2004.12.30 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
王晓亮;王梅;胡国新;王军喜;李建平;曾一平;李晋闽 |
分类号 |
H01L29/812(2006.01);H01L21/338(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/812(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
1、一种改善氮化镓基高电子迁移率晶体管栅极肖特基性能的结构,其特征在于,包括:一蓝宝石衬底或碳化硅衬底或硅衬底;一高阻氮化镓缓冲层,该高阻氮化镓缓冲层制作在衬底上;一薄层非故意掺杂铝镓氮插入层,该非故意掺杂铝镓氮插入层制作在高阻氮化镓缓冲层上;一高迁移率氮化镓沟道层,该高迁移率氮化镓沟道层制作在非故意掺杂铝镓氮插入层上;一非故意掺杂铝镓氮空间隔离层,该非故意掺杂铝镓氮空间隔离层制作在高迁移率氮化镓沟道层上;一n型掺杂铝镓氮载流子供给层,该n型掺杂铝镓氮载流子供给层制作在非故意掺杂铝镓氮空间隔离层上;一非故意掺杂铝镓氮盖帽层,该非故意掺杂铝镓氮盖帽层制作在n型掺杂铝镓氮载流子供给层上。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |