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发明名称 METHOD FOR FORMING DUAL DAMASCENE PATTERN
摘要
申请公布号 KR20060075890(A) 申请公布日期 2006.07.04
申请号 KR20040115260 申请日期 2004.12.29
申请人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. 发明人 MIN, BYUNG SEUNG
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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