PHOTO MASK WITH PHASE SHIFT ASSIST PATTERN,申请号KR20040114741-传众专利搜索

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发明名称	PHOTO MASK WITH PHASE SHIFT ASSIST PATTERN
摘要
申请公布号	KR20060076350(A)	申请公布日期	2006.07.04
申请号	KR20040114741	申请日期	2004.12.29
申请人	HYNIX SEMICONDUCTOR INC.	发明人	YOU, TAE JUN
分类号	H01L21/027;H01L21/8242;H01L27/108	主分类号	H01L21/027
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