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发明名称 METHOD OF FORMING AN ISOLATION LAYER IN A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060076498(A) 申请公布日期 2006.07.04
申请号 KR20040114947 申请日期 2004.12.29
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 LEE, IN NO
分类号 H01L21/76;H01L21/3065;H01L21/32 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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