发明名称 METHOD FOR FORMING GATE SPACER OF MOS TRANSISTOR
摘要
申请公布号 KR20060076070(A) 申请公布日期 2006.07.04
申请号 KR20040115760 申请日期 2004.12.29
申请人 DONGBU ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, YOUNG SEONG
分类号 H01L21/336;H01L21/335 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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