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发明名称 METHOD FOR FABRICATING ACTIVE REGION OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20060075997(A) 申请公布日期 2006.07.04
申请号 KR20040115385 申请日期 2004.12.29
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KIM, JONG HWAN
分类号 H01L21/335 主分类号 H01L21/335
代理机构 代理人
主权项
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