发明名称 | 画素结构与薄膜电晶体及其制造方法 | ||
摘要 | 一种画素结构的制造方法,此方法包括提供一基板,且在基板上已形成有一彩色滤光层,而彩色滤光层上系覆盖有一平坦层。接着在平坦层上形成一第一金属层并图案化第一金属层而定义出一源极与一汲极。在基板上方依序形成一通道材质层、一闸绝缘层以及一第二金属层以覆盖源极与汲极,并图案化第二金属层、闸绝缘层以及通道材质层而定义出一闸极以及一通道层。在基板上方形成一保护层以覆盖闸极,并且图案化保护层而使部分汲极暴露出来。接着在基板上方形成一透明导电层,且此透明导电层系与暴露出的汲极电性接触。图案化此透明导电层,以定义出一画素电极。 | ||
申请公布号 | TW200622461 | 申请公布日期 | 2006.07.01 |
申请号 | TW093140424 | 申请日期 | 2004.12.24 |
申请人 | 广辉电子股份有限公司 | 发明人 | 洪孟逸;施明宏 |
分类号 | G02F1/1368 | 主分类号 | G02F1/1368 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚二路189号 |