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发明名称
相位差薄膜及其制造方法,光学功能薄膜,偏光薄膜,暨显示装置
摘要
本发明之主要目的在于提供:没有于形成相位差层时所发生之从基材上剥离相位差层等问题,可靠性高,且可扩大所得厚度方向及面内方向阻滞(retardation)值之范围,在即使为少量之情况下,亦可轻易得到任意厚度方向及面内方向阻滞值的双轴性相位差薄膜及其制造方法;使用该相位差层之光学功能薄膜;偏光薄膜;暨显示装置。其解决手段系提供一种双轴性之相位差薄膜,其系在高分子薄膜内,含有具有折射率异向性之材料而形成,上述具有折射率异向性之材料在上述高分子薄膜之厚度方向上具有浓度梯度。
申请公布号
TW200622321
申请公布日期
2006.07.01
申请号
TW094140217
申请日期
2005.11.16
申请人
大印刷股份有限公司
发明人
鹿岛启二;梁谷岳史;白井贤治
分类号
G02B5/30
主分类号
G02B5/30
代理机构
代理人
赖经臣;宿希成
主权项
地址
日本
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