发明名称 电浆处理装置及其电极构造
摘要 本发明于大面积被处理物用之电浆处理装置减低电极之库伦力所造成之挠曲量,确保表面处理之均匀度。电浆处理装置之电极构造30X系由分别左右延伸且前后互相对峙之1对电极列31X、32X所组成。各电极列系以左右排列之复数电极构件31A~32C所构成,左右方向实质上配置于相同位置之一方电极列与另一方电极列之电极构件彼此具有互相相反之极性,于互相之对向面之间形成列间部分间隙33p。并且,各电极列之相邻电极构件彼此之极性互相相反。
申请公布号 TWI257643 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW093122208 申请日期 2004.07.23
申请人 积水化学工业股份有限公司 发明人 上原刚;大野毅之;势造一志;竹内裕人;小宫广实;伊藤巧;太田宜卫
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种电浆处理装置之电极构造,其特征在于其系 于藉由在放电空间将处理气体电浆化并吹出,触及 被处理物,以便进行电浆处理之装置,形成前述放 电空间之电极构造;且包含: 第一电极列,其系将长度比被处理物之尺寸短之电 极构件于一方向排列复数,全体对应于被处理物之 尺寸之长度者;及 第二电极列,其系将长度比前述被处理物之尺寸短 之其他电极构件,与第一电极列平行排列复数,全 体对应于被处理物之尺寸之长度者; 配置于前述排列方向之实质上相同位置之第一、 第二电极列之电极构件彼此具有互相相反之极性, 于互相之间构成作为前述放电空间之一部分之列 间部分间隙; 于第一、第二电极列彼此之间,将前述列间部分间 隙一列地连接复数而成之列间间隙系形成对应于 被处理物尺寸之长度。 2.如请求项1之电浆处理装置之电极构造,其中作为 前述极性有电场施加极及接地极,前述电极构件中 之构成电场施加极者彼此连接于互异之电源。 3.如请求项1之电浆处理装置之电极构造,其中作为 前述极性有电场施加极及接地极,前述电极构件中 之构成电场施加极者彼此连接于共同之电源。 4.一种电浆处理装置之电极构造,其特征在于其系 于藉由在放电空间将处理气体电浆化并吹出,触及 被处理物,以便进行电浆处理之装置,形成前述放 电空间之电极构造;且包含: 第一电极列,其系由排列于一方向之复数电极构件 所组成者;及 第二电极列,其系由与此第一电极列平行排列之其 他复数电极构件所组成者; 配置于前述排列方向之实质上相同位置之第一、 第二电极列之电极构件彼此具有互相相反之极性, 于互相之间构成作为前述放电空间之一部分之列 间部分间隙; 于第一、第二电极列彼此之间,形成将前述列间部 分间隙一列地连接复数而成之列间间隙;且 于前述排列方向相邻之电极构件彼此之极性互相 相反。 5.如请求项4之电浆处理装置之电极构造,其中于前 述第一电极列及/或第二电极列,在前述排列方向 相邻之电极构件彼此间形成列内间隙,此列内间隙 亦构成前述放电空间之其他一部分。 6.如请求项5之电浆处理装置之电极构造,其中于前 述第一电极列及/或第二电极列,在前述排列方向 相邻之电极构件中之一方具有:形成前述列间间隙 之第一面,及与此第一面形成角度之第二面;另一 方电极构件具有:与前述第一面形成大致齐平面并 形成前述列间间隙之第三面,及与此第三面形成角 度并与前述第二面对向之第四面;于前述第二面及 第四面之间形成前述列内间隙。 7.如请求项6之电浆处理装置之电极构造,其中前述 第一面及第二面形成钝角,前述第三面及第四面形 成锐角,前述列内间隙对于前述列间间隙形成倾斜 。 8.如请求项7之电浆处理装置之电极构造,其中前述 第一面及第二面所形成之钝角侧之角系以相对大 之曲率半径进行R倒角,前述第三面及第四面所形 成之锐角侧之角系以相对小之曲率半径进行R倒角 。 9.如请求项7之电浆处理装置之电极构造,其中在与 具有前述第一面之电极构件所属之电极列相反侧 之电极列,与具有前述第一面之电极构件实质上相 同位置之电极构件系以自前述第一面横跨第三面 之端部之方式配置。 10.如请求项7之电浆处理装置之电极构造,其中前 述列内间隙之下游端系可不经由前述列间间隙而 吹出处理气体地开口。 11.一种电浆处理装置之电极构造,其特征在于其系 于藉由在放电空间将处理气体电浆化并吹出,触及 被处理物,以便进行电浆处理之装置,形成前述放 电空间之电极构造;且包含: 第一电极列,其系由排列于一方向之复数电极构件 所组成者;及 第二电极列,其系由与此第一电极列平行排列之其 他复数电极构件所组成者; 配置于前述排列方向之实质上相同位置之第一、 第二电极列之电极构件彼此具有互相相反之极性, 于互相之间构成作为前述放电空间之一部分之列 间部分间隙; 于第一、第二电极列彼此之间,形成将前述列间部 分间隙一列地连接复数而成之列间间隙;且 于前述排列方向相邻之电极构件彼此为同一极性 。 12.如请求项11之电浆处理装置之电极构造,其中作 为前述极性有电场施加极及接地极,绝缘性隔壁介 于前述排列方向相邻之电场施加极之电极构件彼 此间。 13.一种电浆处理装置,其特征在于其系藉由将处理 气体由导入口导引至放电空间电浆化,并由吹出口 吹出,触及被处理物,以便进行电浆处理之处理装 置;且具备: 电极构造,其包含:第一电极列,其系由排列在与前 述导入口朝向吹出口之方向交叉之方向之复数电 极构件所组成者;及第二电极列,其系由与此第一 电极列平行排列之其他复数电极构件所组成者; 第一电极列之电极构件及第二电极列之电极构件 彼此中配置于前述排列方向之第一位置者彼此具 有互相相反之极性,并于互相间形成作为前述放电 空间之一部分之第一列间部分间隙,同时配置于前 述第一位置隔壁之第二位置者彼此具有互相相反 之极性,并于互相间形成作为前述放电空间之其他 一部分之第二列间部分间隙;且进一步具备: 气体诱导手段,其系将通过前述第一列间部分间隙 之靠第二位置之部位之处理气体流,朝向与第二位 置之边界或第二位置方向诱导者。 14.如请求项13之电浆处理装置,其中于前述第一列 间部分间隙之靠第二位置之部位之内部设置气体 诱导构件,其系作为前述气体诱导手段,具有朝向 第二位置方向倾斜之气体诱导面者。 15.如请求项14之电浆处理装置,其中比前述气体诱 导构件之前述气体诱导面在吹出口侧,形成朝与气 体诱导面相反方向倾斜之气体返回面。 16.如请求项13项之电浆处理装置,其中进一步具备 形成前述导入口之导入口形成部; 前述气体诱导手段设置于前述导入口形成部。 17.如请求项16之电浆处理装置,其中前述导入口形 成部之导入口具有朝向前述第一列间部分间隙之 靠第二位置之部位之分支口,此分支口藉由朝第二 位置方向倾斜,构成前述气体诱导手段。 18.如请求项16之电浆处理装置,其中于前述导入口 形成部之导入口之与前述第一列间部分间隙之靠 第二位置之部位对应之位置,收容朝第二位置方向 倾斜之整流板作为前述气体诱导手段。 19.如请求项13之电浆处理装置,其中前述气体诱导 手段包含闭塞部,其系闭塞前述第一列间部分间隙 与第二列间部分间隙之边界之前述导入口侧之端 部,同时由其开放吹出口侧者。 20.如请求项19之电浆处理装置,其中进一步具备形 成前述导入口之导入口形成部; 前述导入口形成部之导入口形成延伸于前述排列 方向之狭缝状,并由第一列间部分间隙横跨第二列 间部分间隙,前述闭塞部收容于此导入口之对应于 前述第一列间部分间隙与第二列间部分间隙之边 界之位置。 21.如请求项19之电浆处理装置,其中于前述电极构 造设置:1对介在部,其系分别夹在第一电极列之第 一位置之电极构件与第二位置之电极构件彼此间 及第二电极列之第一位置之电极构件与第二位置 之电极构件彼此间者;及间隔物,其系具有连接此 等介在部之连结部者;前述连结部藉由偏向前述边 界之前述导入口侧之端部配置,提供作为前述闭塞 部。 22.如请求项13之电浆处理装置,其中进一步具备形 成前述吹出口之吹出口形成部; 前述气体诱导手段系设置于前述吹出口形成部,将 出自第一列间部分间隙之靠第二位置之部位之处 理气体朝第二位置方向诱导。 23.如请求项22之电浆处理装置,其中前述气体诱导 手段具有朝第二方向倾斜之气体诱导面,配置于前 述吹出口形成部之吹出口内之对应于前述第一列 间部分间隙之靠第二位置之部位之位置。 24.如请求项22之电浆处理装置,其中前述气体诱导 手段包含闭塞部,其系于前述吹出口形成部之吹出 口内之对应于前述第一列间部分间隙与第二列间 部分间隙之边界之位置,偏向前述电极构造侧而配 置,堵塞前述边界之吹出口侧之端部者。 25.如请求项22之电浆处理装置,其中前述吹出口形 成部具有多孔板,藉由此多孔板分散来自第一列间 部分间隙之处理气体,进而朝第二位置方向亦扩散 吹出,藉此提供前述多孔板作为前述气体诱导手段 。 26.如请求项22之电浆处理装置,其中前述吹出口形 成部之吹出口之对应于前述第一列间部分间隙与 第二列间部分间隙彼此之边界之部位相较于对应 于第一列间部分间隙之部位,开口宽度变大,提供 此开口宽度大之部位作为前述气体诱导手段。 27.一种电浆处理装置,其特征在于其系藉由将处理 气体由导入口导引至放电空间电浆化,并由吹出口 吹出,触及被处理物,以便进行电浆处理之处理装 置;且具备: 电极构造,其包含:第一电极列,其系由排列在与前 述导入口朝向吹出口之方向交叉之方向之复数电 极构件所组成者;及第二电极列,其系由与此第一 电极列平行排列之其他复数电极构件所组成者; 第一电极列之电极构件及第二电极列之电极构件 彼此中配置于前述排列方向之第一位置者彼此具 有互相相反之极性,并于互相间形成作为前述放电 空间之一部分之第一列间部分间隙,配置于前述第 一位置隔壁之第二位置者彼此具有互相相反之极 性,并于互相间形成作为前述放电空间之其他一部 分之第二列间部分间隙,而且第一电极列之第一位 置之电极构件与第二位置之电极构件彼此之极性 互相相反,同时于此等电极构件彼此间形成列内间 隙; 进一步具备形成前述导入口之导入口形成部; 前述导入口形成部之导入口包含:列间导入口,其 系横跨前述第一列间部分间隙及第二列间部分间 隙者;及列内导入口,其系直接相连于前述列内间 隙者。 28.一种电浆处理装置,其特征在于具备:电场施加 电极及接地电极,其系互相对向,于其间形成处理 气体之通路者;复数电源装置,其系于此等电极间, 施加为了将前述处理气体电浆化之电场者;及同步 手段,其系使此等电源装置同步者。 29.如请求项28之电浆处理装置,其中前述复数电源 装置之各个具有:整流部,其系将商用交流电压整 流成直流者;及变换器,其系以切换元件切换整流 后之直流,转换成交流电压者;前述同步手段系以 互相同步之方式控制各电源装置之变换器之切换 动作。 30.如请求项29之电浆处理装置,其中前述同步手段 具有为了前述复数电源装置之变换器之共同之闸 极信号输出部,将来自此闸极信号输出部之闸极信 号并排输入各变换器之切换元件之闸极。 31.如请求项29之电浆处理装置,其中前述同步手段 具有:设置于各电源装置之各变换器之复数闸极信 号输出部,及为了此等闸极信号输出部之共同之同 步信号供给部;将来自此同步信号供给部之同步信 号并排输入各闸极信号输出部,各闸极信号输出部 按照此,将闸极信号输入对应之变换器之切换元件 之闸极。 32.一种电浆处理装置,其特征在于具备: 电场施加电极,其系具有第一、第二分割电极构件 者; 接地电极,其系在与此电场施加电极之间形成处理 气体之通路者; 第一电源装置,其系于前述第一分割电极构件与接 地电极之间,施加为了将前述处理气体电浆化之电 场者; 第二电源装置,其系于前述第二分割电极构件与接 地电极之间,施加为了将前述处理气体电浆化之电 场者;及 同步手段,其系使前述第一电源装置及第二电源装 置同步者。 33.如请求项32之电浆处理装置,其中前述第一分割 电极构件与接地电极之静电电容比前述第二分割 电极构件与接地电极之静电电容大; 相较于前述第一电源装置,前述第二电源装置系施 加电压之上升及/或下降时间长。 34.如请求项32之电浆处理装置,其中前述第一分割 电极构件与接地电极之静电电容比前述第二分割 电极构件与接地电极之静电电容大; 电容器并联连接于前述第二分割电极构件。 图式简单说明: 图1系表示第一实施型态之远距式常压电浆处理装 置之侧面剖面图。 图2系沿着图1之II-II线之前述远距式常压电浆处理 装置之电极构造之平面剖面图。 图3系使电极构造投影于前述远距式常压电浆处理 装置之被处理物之玻璃基板之平面图。 图4系表示于电极构造之电极列间之间隙设置气体 诱导构件之实施型态之概略平面图。 图5系沿着图4之V-V线之电极构造之正面剖面图。 图6系表示气体诱导构件之变形例之正面剖面图。 图7系表示气体诱导构件之变形例之正面剖面图。 图8系表示气体诱导构件之变形例之正面剖面图。 图9系表示设置于处理气体导入口形成部之气体诱 导手段之实施型态之正面图。 图10系表示设置于处理气体导入口形成部之气体 诱导手段之其他实施型态之正面图。 图11系表示配合处理气体之斜流而使电极构件之 端面倾斜之实施型态之平面图。 图12系表示设置于处理气体导入口形成部之气体 诱导手段之其他实施型态,为沿着图13之XII-XII线之 侧面剖面图。 图13系沿着图12之XIII-XIII线之正面剖面图。 图14系作为图12之气体诱导手段之整流构件之立体 图。 图15系表示于处理气体导入口形成部设置列间部 分间隙彼此之间隙之闭塞构件作为气体诱导手段 之实施型态之正面剖面图。 图16为图15之实施型态之平面剖面图。 图17系表示于电极间设置作为气体诱导手段之门 型间隔物之实施型态之正面剖面图。 图18系正视前述门型间隔物之图。 图19为图17之实施型态之平面剖面图。 图20系表示于吹出口形成部设置气体诱导手段之 实施型态之分解立体图。 图21为图20之实施型态之正面剖面图。 图22系表示于吹出口设置多孔板作为气体诱导手 段之实施型态之分解立体图。 图23为图22之实施型态之正面剖面图。 图24系表示于吹出口形成部设置列间部分间隙彼 此之边界之闭塞部之实施型态之分解立体图。 图25系沿着图24之XXV-XXV线之侧面图。 图26系沿着图24之XXVI-XXVI线之正面图。 图27系表示经由列内吹出口使列内间隙之下游端 开口之实施型态之分解立体图。 图28为图27之实施型态之吹出口形成构件(下板)之 平面图。 图29系表示上述列内吹出口之变形例之平面图。 图30(a)系表示上述列内吹出口之其他变形例之平 面图。 图30(b)系表示上述列内吹出口之其他变形例之平 面图。 图31系表示于处理气体导入部设置列内导入口之 实施型态之分解立体图。 图32为图31之处理气体导入部之平面图。 图33系表示稍微使第一、第二电极列之互相对向 之电极构件偏离之实施型态之平面图。 图34系表示使列内间隙倾斜之实施型态之平面剖 面图。 图35为图34之实施型态之分解立体图。 图36(a)系表示将图34之列间间隙与倾斜列内间隙之 交叉部放大表示之平面图,(b)、(c)系表示分别改变 倾斜列内间隙之倾斜角度之变形例之放大平面图 。 图37系表示使列内间隙倾斜,各电极列之电极构件 数为4个之实施型态之平面剖面图。 图38为图37之实施型态之分解立体图。 图39系表示采用共同(单一)电源之实施型态之平面 图。 图40系表示时各电极列凑齐同一极性之实施型态 之平面图。 图41系表示各电极列相同极性,采用共同(单一)电 源之实施型态之平面图。 图42系表示将各电极列之相邻电极构件之端面彼 此对接,消除列内间隙之实施型态之平面剖面图。 图43系表示于图42之进一步使各电极列相同极性之 实施型态之平面剖面图。 图44系表示设置使复数电源装置同步之同步手段 之实施型态之基本构成例之电路图。 图45系表示图44之具体构成之实施型态之电路图。 图46系表示图44之具体构成之其他实施型态之电路 图。 图47系表示图46之变形例之电路图。 图48系表示图46之其他变形例之电路图。 图49(a)系表示于图44之第一分割电极构件与第二分 割电极构件之尺寸不同之态样之电路图。 图49(b)系表示图49(a)之第一电源装置及第二电源装 置之输出电压波形之曲线图,横轴为时间,纵轴为 电压。 图50系表示于图49(a)之适用其他解决手段之态样之 电路图。
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