发明名称 氨之精制方法
摘要 本发明提供一种氨之精制方法,可以高效率地除去粗氨中的杂质,可将含在粗氨的微量的杂质除去到极低浓度的同时,即使反覆进行精制剂的再生也不会降低杂质的除去能力,可以连续地供给高纯度的氨。将粗氨与精制剂、进而与合成沸石接触,除去含在该粗氨的杂质,上述作为有效成份之精制剂含有(1)氧化锰和(2)选自于氧化钒、氧化铬、氧化锡、氧化锆、氧化铋、氧化铌及氧化钽中之1种以上的金属氧化物,锰原子数相对于该有效成份全体的金属原子数的比例是80~99%。
申请公布号 TWI257376 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW092129382 申请日期 2003.10.23
申请人 派欧尼股份有限公司 发明人 大塚健二;荒川秩;笠谷尚史;池田友久
分类号 C01C1/02 主分类号 C01C1/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种氨之精制方法,其特征是将粗氨与精制剂接 触,除去含在该粗氨的杂质,上述作为有效成份之 精制剂含有氧化锰和选自于氧化钒、氧化铬、氧 化锡、氧化锆、氧化铋、氧化铌及氧化钽中之1种 以上的金属氧化物,锰原子数相对于该有效成份全 体的金属原子数的比例是80-99%。 2.一种氨之精制方法,其特征是将粗氨与精制剂及 合成沸石接触,除去含在该粗氨的杂质,上述作为 有效成份之精制剂含有氧化锰和选自于氧化钒、 氧化铬、氧化锡、氧化锆、氧化铋、氧化铌及氧 化钽中之1种以上的金属氧化物,锰原子数相对于 该有效成份全体的金属原子数的比例是80-99%。 3.一种氨之精制方法,其特征是将粗氨与精制剂接 触,除去含在该粗氨的杂质,接着将再生气体与该 精制剂接触,再生该精制剂,上述作为有效成份之 精制剂含有氧化锰和选自于氧化钒、氧化铬、氧 化锡、氧化锆、氧化铋、氧化铌及氧化钽中之1种 以上的金属氧化物,锰原子数相对于该有效成份全 体的金属原子数的比例是80-99%。 4.一种氨之精制方法,其特征是将粗氨与精制剂及 合成沸石接触,除去含在该粗氨的杂质,接着将再 生气体与该精制剂及该合成沸石接触,再生该精制 剂及该合成沸石,上述作为有效成份之精制剂含有 氧化锰和选自于氧化钒、氧化铬、氧化锡、氧化 锆、氧化铋、氧化铌及氧化钽中之1种以上的金属 氧化物,锰原子数相对于该有效成份全体的金属原 子数的比例是80-99%。 5.如申请专利范围第1至4项中任一项之氨之精制方 法,其中有效成份含有率相对于精制剂全量是70重 量%以上。 6.如申请专利范围第1至4项中任一项之氨之精制方 法,其中氧化锰是MnO、Mn3O4、Mn2O3或者MnO2。 7.如申请专利范围第1至4项中任一项之氨之精制方 法,其中氧化锰含有量相对于有效成份全量系为86- 99重量%以上。 8.如申请专利范围第2或4项中之氨之精制方法,其 中合成沸石是具有相当3-10的细孔径的合成沸石 。 9.如申请专利范围第1至4项中任一项之氨之精制方 法,其中含在粗氨中的杂质是选自于氧、一氧化碳 、二氧化碳、水中之1种以上的化合物。 10.如申请专利范围第3或4项中之氨之精制方法,其 中精制剂的再生是通过向精制剂供给惰性气体,接 着供给氢或者氨来进行的。 11.如申请专利范围第1至4项中任一项之氨之精制 方法,其中粗氨和精制剂的接触温度是150℃以下。 12.如申请专利范围第2或4项中之氨之精制方法,其 中粗氨和合成沸石的接触温度是150℃以下。 13.如申请专利范围第3或4项中之氨之精制方法,其 中精制剂的再生温度是160℃-400℃。 14.如申请专利范围第4项之氨之精制方法,其中合 成沸石的再生温度是160℃-350℃。 15.如申请专利范围第3项之氨之精制方法,其中配 置至少2个具有精制剂的精制流程线,一边顺次地 切换精制流程线,一边供给粗氨进行精制的同时, 一边顺次地切换精制流程线,一边向精制后的流程 线供给再生气体,以再生该线的精制剂。 16.如申请专利范围第4项之氨之精制方法,其中配 置至少2个具有精制剂及合成沸石的精制流程线, 一边顺次地切换精制流程线,一边供给粗氨进行精 制的同时,一边顺次地切换精制流程线,一边向精 制后的流程线供给再生气体,以再生该线的精制剂 及合成沸石。 图式简单说明: 第1图表示为了实施本发明氨之精制方法的精制流 程线的例示构成图。 第2(A),2(B)图表示为了实施本发明氨之精制方法的 精制流程线的第1图以外的例示构成图。 第3图表示为了实施本发明氨之精制方法的精制装 置的例示构成图。
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