发明名称 线性滚柱滑轨之滑块结构
摘要 本发明主要系解决知线性滚柱滑轨供滚柱滚动之导槽不易加工及须另外装设保持器之缺点;主要包含一主要滑块及一次要滑块,其分别具一贯通横向两侧面及其中一纵向侧面之容槽及滑槽,该容槽系供次要滑块置入,该次要滑块两侧系各形成一垂直部,该各垂直部与主要滑块之接触面系各设有数个倾斜及贯通两侧之凹槽,各垂直部相对于各凹槽之另侧面系另设数个相对之倾斜凹槽,该各凹槽之两侧顶端系形成一保持部,则滚柱可在主要滑块及次要滑块与滑轨间之凹槽中无限循环滚动;藉以大幅度降低滑块之加工成本,并提升滑块之加工及组装效率。
申请公布号 TWI257457 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW094118429 申请日期 2005.06.03
申请人 上银科技股份有限公司 发明人 陈琮仁;陈冠群
分类号 F16C29/08 主分类号 F16C29/08
代理机构 代理人 苏显读 台中市南区国光路85号12楼之3
主权项 1.一种『线性滚柱滑轨之滑块结构』,其系将滑块 设为由一主要滑块及一次要滑块组装固定所构成, 次要滑块系容置于主要滑块内;次要滑块系可供一 滑轨穿枢; 该次要滑块与主要滑块之两侧接触面系设数个凹 槽,该次要滑块相对于该数个凹槽之相对侧面系另 设数个凹槽,各凹槽之两侧顶端系各形成一朝凹槽 中心略微延伸之保持部。 2.如申请专利范围第1项所述之一种『线性滚柱滑 轨之滑块结构』,该各相对之凹槽系呈倾斜相对。 3.如申请专利范围第2项所述之一种『线性滚柱滑 轨之滑块结构』,该主要滑块与次要滑块之凹槽之 相对侧面系设为平行倾斜面。 4.如申请专利范围第2项所述之一种『线性滚柱滑 轨之滑块结构』,该滑轨与次要滑块之凹槽之相对 侧面系设为平行倾斜面。 5.如申请专利范围第2项所述之一种『线性滚柱滑 轨之滑块结构』,该次要滑块与主要滑块之两侧接 触面系设两倾斜之凹槽,该次要滑块相对于该各倾 斜凹槽之相对侧面系另设两凹槽,各凹槽之两侧顶 端系各形成一朝凹槽中心略微延伸之保持部,该主 要滑块与次要滑块之凹槽之相对侧面系设为平行 倾斜面,该滑轨与次要滑块之凹槽之相对侧面系设 为平行倾斜面。 6.如申请专利范围第1或5项所述之一种『线性滚柱 滑轨之滑块结构』,该保持部系呈鹰喙状。 7.如申请专利范围第5项所述之一种『线性滚柱滑 轨之滑块结构』,该次要滑块与主要滑块组装固定 后,其两侧端面系再依序组装一回流板及一端盖; 该次要滑块之两侧端面两侧系各设一内导流块,该 各内导流块之两端系与次要滑块两相对之凹槽相 接; 该各回流板对应次要滑块之各内导流块系各形成 一内导流槽,各内导流槽之交错方向系再另设一外 导流块,内导流块与内导流槽间系形成提供滚柱无 限循环滚动之导槽; 各端盖对应各回流板之外导流块系形成一外导流 槽,外导流块与外导流槽间系形成提供滚柱无限循 环滚动之导槽。 图式简单说明: 图一系第一种习知线性滚柱滑轨之立体分解图。 图二系第一种习知线性滚柱滑轨之剖面图。 图三系第二种习知线性滚柱滑轨之立体分解图。 图四系第二种习知线性滚柱滑轨之剖面图。 图五系本发明第一种实施例之立体分解图。 图六系本发明第一种实施例之立体组装图。 图七A系本发明作第一种实施例主要滑块之剖面图 。 图七B系本发明第一种实施例之次要滑块之剖面图 。 图七C系本发明第一种实施例主要及次要滑块之组 装剖面图。 图八系本发明第一种实施例之滑块结合滑轨之前 视剖面图。 图九A系本发明第一种实施例之滑块结合滑轨之侧 视剖面图。 图九B系本发明第一种实施例之滑块结合滑轨之侧 视剖面图。 图十系本发明第一种实施例之组装回流板及端盖 之立体分解图。 图十一系本发明第二种实施例之立体分解图。
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