| 主权项 |
1.一种液晶显示器基板,其包括: 一基板; 一间隔物定义层,形成于该基板上,具有一第一段 差;以及 一光学间隔物,其系顺着该间隔物定义层上之第一 段差的轮廓而形成于第一段差附近,使得该光学间 隔物形成一第二段差。 2.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器基板,其 中该光学间隔物之第二段差之高度为0.05m至0.3 m之间。 3.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器基板,其 更包括一保护层,形成于该间隔物定义层和该光学 间隔物之间。 4.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器基板,其 中该间隔物定义层为一遮光阵列。 5.如申请专利范围第4项所述之液晶显示器基板,其 中该遮光阵列形成于该基板上,具有一第一开口和 一第二开口,第一开口定义出一显示区,第二开口 定义出该第一段差。 6.如申请专利范围第5项所述之液晶显示器基板,其 中该第二开口为一细缝。 7.如申请专利范围第5项所述之液晶显示器基板,其 中该第二开口为一孔洞。 8.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器基板,其 中该间隔物定义层为一彩色滤光层。 9.如申请专利范围第8项所述之液晶显示器基板,其 更包括一遮光阵列,形成于该基板与该彩色滤光层 之间。 10.如申请专利范围第8项所述之液晶显示器基板, 其中该第一段差系由该彩色滤光层之一边缘而定 义。 11.如申请专利范围第8项所述之液晶显示器基板, 其中该彩色滤光层形成于该基板上之一非显示区 内,具有一第三开口以定义出一第一段差。 12.一种液晶显示器基板之制造方法,其包括以下步 骤: 在一基板上形成一间隔物定义层,具有一第一段差 ; 在该间隔物定义层上形成一光学间隔层,使得该光 学间隔层顺着该第一段差的轮廓而形成一第二段 差;以及 藉由一曝光显影步骤,而形成一光学间隔物,保留 该第二段差。 13.如申请专利范围第12项所述液晶显示器基板之 制造方法,在进行曝光显影之前,更包括进行回流( reflow),以调整该光学间隔层之第二段差的高度。 14.如申请专利范围第13项所述液晶显示器基板之 制造方法,其中该回流步骤系将该光学间隔层之第 二段差的高度调整为0.05m至0.3m之间。 15.如申请专利范围第12项所述液晶显示器基板之 制造方法,其中该间隔物定义层为一遮光阵列。 16.如申请专利范围第15项所述液晶显示器基板之 制造方法,其更包括以下步骤: 图案化该遮光阵列,形成一第一开口和一第二开口 ,其中该第一开口定义出一显示区,该第二开口定 义出一第一段差。 17.如申请专利范围第12项所述液晶显示器基板之 制造方法,其中该间隔物定义层为一彩色滤光层。 18.如申请专利范围第17项所述之液晶显示器基板 之制造方法,其更包括: 在该基板上形成一遮光阵列,具有一第一开口以定 义出一显示区;以及 在该基板上之显示区内形成该彩色滤光层,该彩色 滤光层之一边缘定义出一第一段差。 19.如申请专利范围第17项所述之液晶显示器基板 之制造方法,其更包括: 在该基板上形成一遮光阵列,具有一第一开口以定 义出一显示区;以及 在该基板上之显示区和非显示区内形成一彩色滤 光层,其中该彩色滤光层在非显示区内具有一第三 开口以定义出一第一段差。 20.一种液晶显示器,其包括: 一第一基板; 一第二基板; 一液晶层,介于该第一基板和第二基板之间; 其中该第一基板包括: 一基板主体; 一间隔物定义层,形成于该基板主体上,具有一第 一段差;以及 一光学间隔物,其系顺着该间隔物定义层上之第一 段差的轮廓而形成于第一段差附近,使得该光学间 隔物形成一第二段差。 21.如申请专利范围第20项所述之液晶显示器,其中 该光学间隔物之第二段差之高度为0.05m至0.3m 之间。 22.如申请专利范围第20项所述之液晶显示器,其中 该间隔物定义层为一遮光阵列。 23.如申请专利范围第22项所述之液晶显示器, 其中: 该遮光阵列形成于该基板主体上,具有一第一开口 和一第二开口,第一开口定义出一显示区,第二开 口定义出该第一段差;以及 该第二基板包括一金属层,其位于该遮光阵列之第 二开口的对应位置。 24.如申请专利范围第23项所述之液晶显示器,其中 该金属层为一讯号线。 25.如申请专利范围第20项所述之液晶显示器,其中 该间隔物定义层为一彩色滤光层。 26.如申请专利范围第25项所述之液晶显示器,其中 该彩色滤光层,形成于该基板主体上之一显示区内 ,该彩色滤光层之一边缘定义出该第一段差。 27.如申请专利范围第25项所述之液晶显示器,其中 该彩色滤光层,形成于该基板主体上之一非显示区 内,该彩色滤光层在该非显示区内具有一第三开口 以定义出该第一段差。 28.一种液晶显示器基板,其包括: 一基板; 一遮光阵列,形成于该基板上,具有一第一开口,以 定义出一显示区; 一彩色滤光层,形成于该基板上之显示区和非显示 区内;以及 一第一和第二光学间隔物,其中该第一光学间隔物 位于该遮光阵列上没有彩色滤光层重叠的区域,该 第二光学间隔物位于该非显示区内之彩色滤光层 上有遮光阵列重叠的区域,且该第一和第二光学间 隔物之间有一高度差。 29.如申请专利范围第28项所述之液晶显示器基板, 其中该第一和第二光学间隔物的高度差为0.05m 至0.3m之间。 图式简单说明: 第1图显示US 2002/0075443 A1中使用两阶段柱高之photo spacer的剖面示意图。 第2图显示US 2002/0075443 A1中另一种两阶段柱高之 photo spacer的剖面示意图。 第3a至3c图显示US 2002/0075443 A1中形成有段差之间隔 物的制程剖面示意图。 第4a至4c图显示US 2002/0075443 A1中形成有段差之间隔 物的另一制程剖面示意图。 第5图显示本发明液晶显示用基板之基本结构之剖 面示意图。 第6图显示本发明液晶显示用基板之另一基本结构 之剖面示意图。 第7a图显示依据本发明第一具体实施例之液晶显 示器基板的上视图,其中间隔物定义层为一遮光阵 列。 第7b图为一液晶显示器,为沿着第7a图之7b-7b线而视 之剖面图。 第8a图为第7b图之另一上视图,显示第7a图中A部分 的遮光阵列和光学间隔物的配置情形。 第8b和8c图则是本发明第一具体实施例之变化形式 。 第9a图显示依据本发明第二具体实施例之液晶显 示器基板的上视图,其中间隔物定义层为一彩色滤 光层。 第9b图为一液晶显示器,为沿着第9a图之9b-9b线而视 之剖面图。 第10a图显示依据本发明第三具体实施例之液晶显 示器基板的上视图,其中间隔物定义层为一彩色滤 光层。 第10b图为一液晶显示器,为沿着第10a图之10b-10b线 而视之剖面图。 第11a图显示依据本发明第四具体实施例之液晶显 示器基板的上视图,其中设置高低两种间隔物。 第11b图为一液晶显示器,为沿着第11a图之11b-11b线 而视之剖面图。 |
