| 主权项 |
1.一种液晶显示装置,系于一对基板间挟持液晶层, 并于1个像点领域内设置进行透过显示之透过显示 领域,与进行反射显示之反射显示领域之液晶显示 装置; 其特征系:前述液晶层由介电率异方性为负的液晶 所形成,并于前述一对基板之液晶层侧,各形成用 以驱动该液晶之电极,于前述一对基板中之至少一 方基板之电极,形成规定前述液晶之配向的纵长状 之配向规定手段, 并且于前述一对基板中之至少一方基板和前述液 晶层之间,形成用以将前述透过显示领域之液晶层 厚构成比前述反射显示领域之液晶层厚大之液晶 层厚调整层,该液晶层厚调整层,于前述透过显示 领域与前述反射显示领域之边界附近,具备有本身 层厚连续性变化之倾斜面, 前述液晶层厚调整层之倾斜面,是横断形成前述像 点区域之边中,与短边交叉的相向之一对边而所形 成, 形成前述透过显示区域中之前述像点区域之边中 的长边方向之长度,是比前述短边之长度大, 前述配向规定手段之纵长方向,与前述液晶层厚调 整层之倾斜面之纵长方向,由平面视呈交叉被配置 。 2.如申请专利范围第1项所记载之液晶显示装置,其 中,前述配向规定手段是具有将前述电极之一部分 开口成纵长状而所形成之隙缝状之开口部。 3.如申请专利范围第1项或第2项所记载之液晶显示 装置,其中,前述配向规定手段是具有由被形成在 前述电极上之介电体所构成之纵长状之凸状部。 4.如申请专利范围第1项所记载之液晶显示装置,其 中,前述配向规定手段之纵长方向,与前述液晶层 厚调整层之倾斜面之纵长方向,从前述基板之法线 方向平面观视时,构成30-90之角度而交叉。 5.如申请专利范围第1项所记载之液晶显示装置,其 中,前述倾斜面与前述基板平面之夹角为2-30。 6.如申请专利范围第1项所记载之液晶显示装置,其 中,做为前述一对基板乃包含上基板与下基板,于 与前述下基板之液晶层相反侧,设置透过显示用之 背光,于前述下基板与前述液晶层之间,配设有选 择性被形成于前述反射显示领域之反射膜。 7.如申请专利范围第1项所记载之液晶显示装置,其 中,前述配向规定手段,系具备有规定根据前述垂 直配向的液晶分子之电场变化而倾倒之方向的构 造。 图式简单说明: 图1为本发明之第1实施形态之液晶显示装置之等 效电路图。 图2为表示本发明之液晶显示装置之1点之构造平 面图。 图3为表示本发明之液晶显示装置之重点平面模式 图及剖面模式图。 图4为表示本发明之液晶显示装置之说明图。 图5为表示本发明之第2实施形态之液晶显示装置 之重点平面模式图及剖面模式图。 图6为表示本发明之第3实施形态之液晶显示装置 之重点平面模式图及剖面模式图。 图7为表示图6之A-A'剖面图。 图8为表示本发明之电子机器之斜视图。 |
