| 主权项 |
1.一种能曝露于基材加工腔室内的激发气体中之 元件,该元件包括: (a)一元件构造,具有一表面,其包含有相反设置之 第一及第二螺旋凹槽, 藉此于一基材在该基材加工腔室内的激发气体中 加工期间,加工残渣可吸附于该元件构造的表面上 的该等螺旋凹槽,藉以降低该基材受加工残渣的污 染。 2.如申请专利范围第1项之元件,其中该等第一及第 二螺旋凹槽包含有以下至少一种特性: (1)螺旋角度为至少约45; (2)深度为至少约0.25mm; (3)深度不多于约1.5mm;或 (4)圆形边缘。 3.如申请专利范围第1项之元件,其中该等第一及第 二螺旋凹槽具有以下至少其一: (1)一第一间距于该表面的一第一区域中,及一第二 间距于该表面的一第二区域中;或 (2)一第一深度于该表面的一第一区域中,及一第二 深度于该表面的一第二区域中。 4.如申请专利范围第1项之元件,其中该表面进一步 包含有以下至少其一: (1)环形凹槽,其为同心且相互轴向或径向间隔横过 该表面; (2)一粗糙区域,其具有平均表面粗糙度为自约1.6微 米至约12.5微米;或 (3)非凹槽部于该等第一与第二螺旋凹槽之间,其为 实质上连续的段部,该等非凹槽部具有小于约0.1cm 的尺寸。 5.如申请专利范围第1项之元件,包括至少一部分的 基材支撑件、腔室围绕壁、加工套件、挡板、气 体激发部、气体供应部及排气部。 6.一种基材加工腔室,包括如申请专利范围第1项之 该元件,该腔室包括一基材支撑件、一气体激发部 、一气体供应部,及一排气部。 7.一种能曝露于基材加工腔室内的激发气体中之 腔室元件,该元件包括: (a)一元件构造,具有一纹理表面,其包含有: (i)一第一纹理图案区域,具有第一纹理特征,其相 互间隔且各具有第一深度及第一密度,及 (ii)一第二纹理图案区域,具有第二纹理特征,其相 互间隔且各具有第二深度及第二密度, 其中第二深度及第二密度至少其一是不同于第一 深度及第一密度, 藉此于一基材加工期间加工残渣可吸附于该表面, 以降低该基材之污染。 8.如申请专利范围第7项之元件,其中该等第一纹理 特征包含一第一螺旋凹槽,其具有螺旋臂,具第一 深度或间距,及其中该等第二纹理特征包含一第二 螺旋凹槽,其具有第二深度或间距。 9.如申请专利范围第8项之元件,其中该等第一或第 二螺旋凹槽各包含有螺旋臂,其以连续地变化其深 度,其是自该第一区域上为至少约0.8 mm,至该第二 区域上的第二深度为少于约0.6mm,且以连续地变化 其间距,其是自该第一区域上的第一间距为少于约 1.5mm,至该第二区域上的第二间距为至少约1.8mm。 10.如申请专利范围第8项之元件,其中第一及第二 螺旋凹槽彼此相对。 11.一种基材加工腔室,包括如申请专利范围第7项 之该元件,该腔室包括一基材支撑件、一气体激发 部、一气体供应部,及一排气部。 12.一种能曝露于一加工腔室内的激发气体中之基 材加工腔室元件,该元件包括: (a)一元件构造;及 (b)于该元件构造上之一表面,该表面包括(i)数同心 凹槽,其是横过该表面径向间隔,及(ii)电子束纹理 凹部,其形成于该表面上相邻凹槽之间, 藉此加工残渣可吸附于该表面以降低加工基材之 污染。 13.如申请专利范围第12项之元件,其中相邻同心凹 槽相互分离一距离,其为相邻电子束纹理凹部之间 的距离之至少两倍。 14.如申请专利范围第13项之元件,其中相邻同心凹 槽之间的距离是自约5mm至约7mm,且该等凹槽之间相 邻电子束纹理凹部之间的距离是自1mm至约3mm。 15.如申请专利范围第13项之元件,其中该表面上该 等同心凹槽的深度是自约3mm至约8mm,且该表面上该 等电子束纹理凹部的深度是自约25微米至约1524微 米。 16.如申请专利范围第12项之元件,包括相邻凹槽之 间的表面区域,其具有凹陷表面外廓。 17.如申请专利范围第12项之元件,该元件包括至少 一部分的基材支撑件、腔室围绕壁、气体供应部 、气体激发部,及排气部。 18.一种基材加工腔室,包括如申请专利范围第16项 之该元件,该腔室包括一基材支撑件、一加工气体 供应部、一气体激发部,及一排气部。 19.一种基材固持夹,用于一基材加工腔室,该固持 夹包括: (a)一环,包括一环部,其环绕于该腔室内的一基材, 及一凸伸部以覆盖该基材的环周;及 (b)于该凸伸部上之一滚花曝露表面,该滚花曝露表 面包括相间隔的滚花脊部及沟部。 20.如申请专利范围第19项之固持夹,其中该滚花曝 露表面是该凸伸部之一表面,且包括同心脊部及沟 部,其相互径向间隔。 21.如申请专利范围第19项之固持夹,其中该等脊部 及沟部各具有由一中心线之幅度,其是至少约0.5mm 且少于约2.5mm。 22.如申请专利范围第19项之固持夹,其中相邻脊部 具有峰对峰距离为至少约0.5mm且少于约2.5mm。 23.如申请专利范围第19项之固持夹,其中该等滚花 脊部及沟部是以环周地相互间隔。 24.如申请专利范围第19项之固持夹,其中该环是由 不锈钢、钛、铜或铝至少一种所构成。 25.一种基材固持夹,用于一加工腔室,该固持夹包 括: (a)一环,包括一环部,其环绕于该腔室内的一基材, 及一凸伸部,其自该环部向内延伸以覆盖该基材的 环周,其中该环包括(i)一顶面,其延伸横跨该凸伸 部及环部,及(ii)该环部之一外侧面;及 (b)于该顶面及外侧面上之一滚花曝露表面,该滚花 曝露表面包括同心且径向相间隔之滚花脊部及沟 部,其中该等滚花脊部及沟部具有由一中心线之幅 度为至少约0.5mm且少于约2.5mm,且其中相邻滚花脊 部具有峰对峰距离为至少约0.5mm且少于约2.5mm。 26.如申请专利范围第25项之固持夹,其中该外侧面 是实质上垂直于该顶面。 27.如申请专利范围第25项之固持夹,其中该环部包 括第一及第二向下延伸的环壁。 28.如申请专利范围第25项之固持夹,其中该第一壁 是相邻于该基材的环周,且该第二壁是呈同心地于 该第一壁外侧。 图式简单说明: 第1图是加工腔室具有特定纹理表面的元件的一实 施例之部分剖面侧视图; 第2A图是腔室挡板具有形成有相对螺旋凹槽的表 面的实施例之部分剖面侧视图; 第2B图是环形腔室元件具有形成有相对螺旋凹槽 的表面的实施例之部分剖面侧视图; 第2C图是腔室挡板具有第一及第二表面纹理图案 的实施例之部分剖面侧视图; 第3图是腔室元件具有已藉切割刀片形成有凹槽的 实施例之部分剖面侧视图; 第4图是具凹槽腔室元件包含圆形边缘的实施例之 部分剖面侧视图; 第5A图是具有滚花表面的固持夹的实施例之顶视 图; 第5B图是具有滚花表面的固持夹的实施例之剖面 侧视图; 第6A图是具有坚硬边缘的滚花工具的实施例之平 面图; 第6B图是第6A图的滚花工具的坚硬边缘的实施例之 剖面侧视图; 第7图是元件具有以数电子束纹理凹部设于同心凹 槽之间的纹理表面的实施例之剖面侧视图;及 第8图是形成于元件的表面中的电子束纹理凹部的 实施例之剖面侧视图。 |
