| 主权项 |
1.一种刺激脸部穴位之装置,适用于人体,该装置包 括: 一脸罩,具有一外壳与一内壳,该外壳系为可透光 材质,该内壳具有复数个孔洞; 复数个光源,该些光源设置于该些孔洞中,使该些 光源发光时,将光线照射于对应之复数个目标区上 ;以及, 一控制电路,耦接该些光源,输出至少一控制信号 至对应之该些光源,使该些光源以一目标波长发光 ; 当该些光源发光时,由于该内壳系为可透光材质, 因此藉由光学作用,使光线进入该内壳,由于光线 在该内壳内传导,使光线均匀照射于脸部。 2.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为攒竹穴。 3.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为太阳穴。 4.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为承泣穴。 5.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为迎香穴。 6.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为颊车穴。 7.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为地仓穴。 8.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为承浆穴。 9.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为晴明穴。 10.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为丝竹空穴。 11.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为瞳子胶穴。 12.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为四白穴。 13.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为颅胶穴。 14.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为印堂穴。 15.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为下关穴。 16.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为球后穴。 17.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为鱼腰穴。 18.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为颧胶穴。 19.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该目标区之位置系为大迎穴。 20.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该控制信号系为一脉波。 21.如申请专利范围第20项所述之刺激脸部穴位之 装置,其中该脉波频率系介于140Hz至300Hz之间。 22.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该控制电路输出该控制信号至对应之该些 光源,使该些光源发光10分钟至60分钟后,停止发光 。 23.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该可透明材质系为聚碳酸脂材质。 24.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该脸罩更具有一反光层,该反光层设置于 该内壳与外壳之间,将该光源之光线反射至该内壳 。 25.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该反光层之材质系为共聚合树脂材质。 26.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该光源系由复数个发光二极体组成。 27.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该光源之光波长系介于360nm至1200nm之间。 28.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该光源系红光。 29.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该光源系蓝光。 30.如申请专利范围第1项所述之刺激脸部穴位之装 置,其中该光源系绿光。 图式简单说明: 第1图绘示的是依照本创作一较佳实施例之刺激脸 部穴位之装置示意图; 第2A、2B与2C图绘示的是依照本创作一较佳实施例 之脸罩结构示意图; 第3图绘示的是依照本创作一较佳实施例之刺激脸 部穴位之装置之电路方块图;以及, 第4图绘示的是依照本创作一较佳实施例之内壳孔 洞对应穴位图。 |
