| 主权项 |
1.一种制造LCD用正型光阻组成物,其特征为,含有 (A)含有将含3,4-二甲苯酚之苯酚类与醛类缩合反应 合成而得之苯酚与醛类之莫耳比为1:0.5~1:0.95之硷 可溶性酚醛清漆树脂的硷可溶性树脂成分, 相对于(A)成份与后述(C)成份之合计量为20~70质量% 之(B)二叠氮酯化物, 相对于(A)成份为10~70质量%之(C)分子量为1000以下之 含苯酚性羟基化合物, 使固体成份浓度为10~50质量%之(D)有机溶剂。 2.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其特征 为,硷可溶性酚醛清漆树脂含有,使用含3,4-二甲苯 酚及m-甲酚之苯酚类合成而得的硷可溶性酚醛清 漆树脂。 3.如申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其特征 为,硷可溶性酚醛清漆树脂系使用含3,4-二甲苯酚5 至30莫耳%、m-甲酚95至40莫耳%及其他苯酚类0至30莫 耳%之苯酚类合成而得的硷可溶性酚醛清漆树脂。 4.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其特征 为,硷可溶性酚醛清漆树脂系使用含丙醛及甲醛之 醛类合成而得的硷可溶性酚醛清漆树脂。 5.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其特征 为,(D)成分中丙二醇单烷基醚乙酸酯之含量为50至 100质量%。 6.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其特征 为,(D)成分中2-庚酮之含量为50至100质量%。 7.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其系使 用于i线曝光步骤。 8.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其系使 用于NA为0.3以下之曝光步骤。 9.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其系用 于制造于同一基板上形成集成回路及液晶显示部 分之LCD用。 10.一种光阻图型之形成方法,其特征为,含有 (1)将申请专利范围第1项之正型光阻组成物涂布于 基板上,而形成涂膜之步骤; (2)将形成涂膜之基板加热处理(prebake),而于基板上 形成光阻被膜之步骤; (3)对光阻被膜使用描绘2.0m以下光阻图型形成用 图罩图型,及超过2.0m光阻图型形成用图罩图型 双方之图罩进行选择性曝光的步骤; (4)对选择性曝光后之光阻被膜进行加热处理( postexposure bake)的步骤; (5)对加热处理后之光阻被膜使用硷水溶液进行显 像处理,而同时于基板上形成图型尺寸2.0m以下 之集成回路用光阻图型,及超过2.0m之液晶显示 部分用光阻图型的步骤; (6)洗除光阻图型表面残留之显像液的漂洗步骤。 11.如申请专利范围第10项之光阻图型形成方法,其 特征为,(3)选择性曝光之步骤系采用光线为i线之 曝光步骤进行。 12.如申请专利范围第10项之光阻图型形成方法,其 特征为,(3)选择性曝光之步骤系采用NA为0.3以下之 低NA条件下的曝光步骤进行。 图式简单说明: 图1为,评估低NA条件下直线性用,而将正型光阻组 成物涂布于玻璃基板上,烘烤乾燥及进行图型曝光 ,再利用具有缝涂布器之显像装置将显像液盛装于 基板端部X至Z之说明图。 |
