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发明名称
包含有含氮芳香环构造之微影用形成防反射膜之组成物
摘要
本发明提供能显示高的防反射效果,不会引起与光阻之间的混杂(intermixing),可在具有较光阻为更快速的乾蚀刻速度之半导体装置制造的微影步骤(lithographyprocess)中使用之防反射膜、以及为形成该防反射膜之用的组成物。详言之,含有:藉由具有2个缩水甘油基之环氧化合物与具有2个硫醇基或羟基之合氮芳香族化合物之间的加成聚合反应而所得之反应生成物、交联性化合物、交联触媒以及溶剂。
申请公布号
TW200621828
申请公布日期
2006.07.01
申请号
TW094134985
申请日期
2005.10.06
申请人
日产化学工业股份有限公司
发明人
榎本智之;广井佳臣;中山圭介
分类号
C08G18/79;C08G73/06;G03F7/11;H01L21/027
主分类号
C08G18/79
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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