发明名称 形成层间绝缘膜用之放射线敏感性树脂组成物、层间绝缘膜及其形成方法、液晶显示元件
摘要 提供一种形成层间绝缘膜用之放射线敏感性树脂组成物,其能够形成解析度高,能够充分厚膜化,且透明性、耐热性、密合性、耐溶剂性等各种物性都优良的层间绝缘膜,并提供由该树脂组成物形成的层间绝缘膜。形成层间绝缘膜用之放射线敏感性树脂组成物特征在于包括(A)将(a)10~50重量%含酸性官能团的聚合性不饱和化合物、(b)20~60重量%含脂环状烃基而无酸性官能团的聚合性不饱和化合物以及(c)5~40重量%其他聚合性不饱和化合物聚合所得的硷可溶性共聚物;(B)聚合性不饱和化合物;(C)光聚合引发剂;以及(D)偶合剂。层间绝缘膜由该形成层间绝缘膜用之放射线敏感性树脂组成物形成。
申请公布号 TW200622484 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW094132939 申请日期 2005.09.23
申请人 JSR股份有限公司 发明人 花村政晓
分类号 G03F7/004;H01B3/44;H01L21/027;G02F1/1333 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本