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发明名称
表面处理剂、表面处理粉体及含有该表面处理粉体之化粧料
摘要
本发明系提供在赋予粉体优越疏水性之同时可改善其冲洗性之表面处理剂、经该表面处理剂处理之表面处理粉体及含有该表面处理处理粉体之化粧料。以含有由下述通式(1)表示之单体(A)作为构成单体之聚合物所成之表面处理剂。094135104-p01.bmp(式中,R^1表示氢原子或碳原子数1至3之烷基,R^2表示碳原子数4至22之烷撑基,X^1表示-NH-基或氧原子,M^1表示氢原子、1价之无机或有机阳离子)。094135104-p01.bmp
申请公布号
TW200621296
申请公布日期
2006.07.01
申请号
TW094135104
申请日期
2005.10.07
申请人
资生堂股份有限公司
发明人
西滨修二;金田勇;曾我部敦;大泽友;游佐真一
分类号
A61K7/02;C09D135/00
主分类号
A61K7/02
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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