发明名称 修补滤光图案与光罩图案之缺陷的方法
摘要 本发明提供一种修补图案(如滤光图案或光罩图案)之缺陷的方法,其包含利用一雷射光束去除一突起缺陷(tokki defect),使图案形成一缺口,再将一修补乾膜(repairing dry film)置放于图案上,且修补乾膜覆盖图案与缺口,接着进行一转印制程,将位于缺口上之修补乾膜转印至缺口内,以及移除未被转印至缺口内之修补乾膜。
申请公布号 TW200622518 申请公布日期 2006.07.01
申请号 TW093139441 申请日期 2004.12.17
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 陈赞仁;苏国钦
分类号 G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
地址 台南县新市乡台南科学工业园区奇业路1号