微影用防护胶膜组件及防护胶膜框架

摘要

本发明提供一种防护胶膜组件，其能够有效防止于持续短波长化之微影制程中，光罩基板上雾霭(haze)的产生。本发明之微影用防护胶膜组件1系由防护胶膜框架2，及于该框架之一端面贴附之防护胶膜膜片3所构成，构成微影用防护胶膜组件的该防护胶膜框架之特征为：对该框架铝合金表面进行阳极氧化处理而形成，且其硫酸离子、硝酸离子、氯离子以及有机酸(乙二酸、蚁酸及醋酸之总量)各自的含有量为：将该框架浸泡于25℃之100毫升纯水中168小时后，该框架每100平方公分表面积的溶出浓度，均在1.1ppm以下。