薄膜沉积系统之清洁方法、薄膜沉积系统及其程式

摘要

本发明系关于一种薄膜沈积系统之清洁方法，其能够有效移除沈积在一薄膜沈积系统之组成组件表面上之反应产物。一能够进行该薄膜沈积系统清洁方法之热处理系统1包括一控制器100。控制器100控制一加热构件以便在400℃至700℃范围内之温度下加热一反应管2之内部。控制器100控制一清洁气体供给构件，该构件用于经由一制程气体供给管17将一含氟及氟化氢之清洁气体供给入反应管2以移除沈积在反应管2中曝露在一气氛中之表面上之沈积物。