用于涂覆光阻图案之组合物

摘要

本发明揭示一种用于涂覆一光阻图案之组合物，其包括水及一包括由式1所表示之重复单元之化合物。将该组合物涂覆于先前已形成之图案上，藉此有效地减小光阻图案间隔或接触孔之尺寸。使用该组合物来形成一光阻图案之方法有用地应用于所有用于形成一精细图案之半导体制程。094115477-p01.bmp其中R^1至R^6、R’、R”及n定义于说明书中。094115477-p01.bmp